SCHEMBL16650522

SCHEMBL16650522

FC(F)(F)[GeH](C1=[C]CC=C1)C(F)(F)F

nearest known ligand 0.00

⚠ Novel chemotype — no close known analogue (best Tanimoto < 0.3). Unexplored chemical space relative to ChEMBL.

Similar compounds — the chemically nearest patent molecules

Nearest neighbours by Morgan-fingerprint cosine across the patent-compound collection, with each neighbour's top predicted target and the predicted targets it shares with this molecule.

Compoundsimilaritytop predictedshared targets
SCHEMBL10586720 0.69
SCHEMBL16650942 0.62
SCHEMBL16819806 0.59
SCHEMBL16819781 0.59
SCHEMBL44998 0.59
SCHEMBL16819714 0.57
SCHEMBL16650001 0.54
SCHEMBL16819720 0.54
SCHEMBL3849595 0.53
SCHEMBL9902732 0.51

Similarity is cosine over the 2,048-bit Morgan fingerprint (≈ Tanimoto). Identical fingerprints score 1.00.

Patent provenance — the patents this molecule appears in, and who filed them

Claimed or disclosed in 12 patents. claimed = in the patent's claims; disclosed = body only.

PatentTitleAssigneePublishedPriorityFilingCountryStatus
US-9868753-B2 Germanium- and zirconium-containing composition for vapor deposition of zirconium-containing films L'Air Liquide, Société Anonyme our l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude (FR) 2018-01-16 US claimed
US-20170050999-A1 GERMANIUM- AND ZIRCONIUM-CONTAINING COMPOSITION FOR VAPOR DEPOSITION OF ZIRCONIUM-CONTAINING FILMS L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude (FR) 2017-02-23 US claimed
US-20170044664-A1 HAFNIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS FOR VAPOR DEPOSITION OF HAFNIUM-CONTAINING FILMS L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude (FR) 2017-02-16 US claimed
US-9499571-B2 Germanium- and zirconium-containing compositions for vapor deposition of zirconium-containing films L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude (FR) 2016-11-22 US claimed
WO-2016106086-A1 ZIRCONIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS FOR VAPOR DEPOSITION OF ZIRCONIUM-CONTAINING FILMS L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE (FR) 2016-06-30 WO claimed
US-20150110958-A1 GERMANIUM- AND ZIRCONIUM-CONTAINING COMPOSITIONS FOR VAPOR DEPOSITION OF ZIRCONIUM-CONTAINING FILMS L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude (FR) 2015-04-23 US claimed
US-9868753-B2 Germanium- and zirconium-containing composition for vapor deposition of zirconium-containing films L'Air Liquide, Société Anonyme our l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude (FR) 2018-01-16 US disclosed
US-20170050999-A1 GERMANIUM- AND ZIRCONIUM-CONTAINING COMPOSITION FOR VAPOR DEPOSITION OF ZIRCONIUM-CONTAINING FILMS L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude (FR) 2017-02-23 US disclosed
US-20170044664-A1 HAFNIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS FOR VAPOR DEPOSITION OF HAFNIUM-CONTAINING FILMS L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude (FR) 2017-02-16 US disclosed
US-9499571-B2 Germanium- and zirconium-containing compositions for vapor deposition of zirconium-containing films L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude (FR) 2016-11-22 US disclosed
WO-2016106086-A1 ZIRCONIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS FOR VAPOR DEPOSITION OF ZIRCONIUM-CONTAINING FILMS L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE (FR) 2016-06-30 WO disclosed
US-20150110958-A1 GERMANIUM- AND ZIRCONIUM-CONTAINING COMPOSITIONS FOR VAPOR DEPOSITION OF ZIRCONIUM-CONTAINING FILMS L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude (FR) 2015-04-23 US disclosed